Ensiklopedia Dunia

Oksalil fluorida
Rumus struktur oksalil fluorida	Model bola-dan-tongkat oksalil fluorida
Nama
	Nama IUPAC (preferensi) Oksalil difluorida
	Nama lain TL-108
Penanda
Nomor CAS	359-40-0 ;
Model 3D (JSmol)	Gambar interaktif;
ChemSpider	9287 ;
Nomor EC
PubChem CID	9668;
Nomor RTECS	{{{value}}}
UNII	2L7RR7QFL9 ;
CompTox Dashboard (EPA)	DTXSID9059888 ;
	InChI InChI=1/C2F2O2/c3-1(5)2(4)6;
	SMILES C(=O)(C(=O)F)F;
Sifat
Rumus kimia	C2F2O2
Massa molar	94,017 g/mol
Titik lebur	−3 °C (27 °F; 270 K)
Titik didih	26,6 °C (79,9 °F; 299,8 K)
	Kecuali dinyatakan lain, data di atas berlaku pada suhu dan tekanan standar (25 °C [77 °F], 100 kPa).
	verifikasi (apa ini ?)
	Referensi

Oksalil fluorida adalah sebuah senyawa organofluorin dengan rumus kimia (COF)₂. Senyawa ini merupakan turunan terfluorinasi dari asam oksalat. Cairan nirwarna ini dibuat melalui reaksi natrium fluorida dengan oksalil klorida.^[1]

Oksail fluorida sedang diteliti untuk digunakan dalam etsa sebagai pengganti senyawa dengan potensi pemanasan global (global warming potential, GWP) tinggi.^[2]^[3]

Lihat pula

Oksalil
Oksalil klorida
Oksalil bromida
Dioksana tetraketon

Referensi

^ C. W. Tullock, D. D. Coffman (1960). "Synthesis of Fluorides by Metathesis with Sodium Fluoride". J. Org. Chem. 25 (11): 2016–2019. doi:10.1021/jo01081a050.
^ Method of etching and cleaning using fluorinated carbonyl compounds, US Patent 6635185.
^ Simon Karecki; Ritwik Chatterjee; Laura Pruette; Rafael Reif; Terry Sparks; Laurie Beu; Victor Vartanian & Konstantin Novoselovc (2001). "Evaluation of Oxalyl Fluoride for a Dielectric Etch Application in an Inductively Coupled Plasma Etch Tool". J. Electrochem. Soc. 148 (3): G141 – G149. Bibcode:2001JElS..148G.141K. doi:10.1149/1.1348263.

Artikel bertopik halida organik ini adalah sebuah rintisan. Anda dapat membantu Wikipedia dengan mengembangkannya.

[1] C. W. Tullock, D. D. Coffman (1960). "Synthesis of Fluorides by Metathesis with Sodium Fluoride". J. Org. Chem. 25 (11): 2016–2019. doi:10.1021/jo01081a050.

[2] Method of etching and cleaning using fluorinated carbonyl compounds, US Patent 6635185.

[3] Simon Karecki; Ritwik Chatterjee; Laura Pruette; Rafael Reif; Terry Sparks; Laurie Beu; Victor Vartanian & Konstantin Novoselovc (2001). "Evaluation of Oxalyl Fluoride for a Dielectric Etch Application in an Inductively Coupled Plasma Etch Tool". J. Electrochem. Soc. 148 (3): G141 – G149. Bibcode:2001JElS..148G.141K. doi:10.1149/1.1348263.

[1]

[2]

[3]

Ensiklopedia Dunia

Oksalil fluorida

Lihat pula

Referensi

Beranda

Program Studi